金融界2025年7月1日消息普患配资，国家知识产权局信息显示，美光科技公司申请一项名为“利用定向自组装形成微电子装置的方法及相关微电子装置”的专利，公开号CN120239271A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本申请案涉及利用定向自组装形成微电子装置的方法及相关微电子装置。一种形成微电子装置的方法包含在半导体结构中形成在其间插入有半导体支柱的第一沟槽及在该第一沟槽中形成具有第二绝缘结构的第一绝缘结构。该方法还包含形成邻近半导体支柱的第一端及第一绝缘结构部分的第一导电结构及形成邻近该第一导电结构及该第一绝缘结构暴露部分的掩模，最上掩模是用于经由定向自组装形成聚合掩模的中性层掩模。该方法进一步包含利用聚合掩模形成第二沟槽及移除由第三沟槽暴露的第一导电结构部分以形成在其间具有开口的第一导电构件。该方法还包含形成邻近所述半导体支柱的侧壁的第二导电结构及形成邻近半导体支柱的第二端的第三导电结构。
本文源自：金融界
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